薄塗り / USNR STYLE - USNR_STYLE_ILL_V1.0
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Parâmetros Recomendados
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Parâmetros Recomendados para Alta Resolução
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Configurações recomendadas:
Método de amostragem: DPM++ 2M SDE
Tipo de agendamento: SGM Uniform
CFG Scale: 6-4
建议设置:
采样方法:DPM++ 2M SDE
Schedule type:SGM Uniform
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