薄塗り / USNR STYLE - USNR_STYLE_ILL_V1.0
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Prompts recommandés
best quality, masterpiece, absurdres, newest, (narrative-rich composition:1.3), <lora:USNR_STYLE_ILL_V1_lokr3-000024:1>
Prompts négatifs recommandés
worst quality, bad quality, jpeg artifacts, (bad hands, bad finger, anatomy), (artist name, copyright name, watermark:1.2), (bad feet, bad toes)
Paramètres recommandés
samplers
steps
cfg
resolution
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Paramètres haute résolution recommandés
upscaler
upscale
denoising strength
Conseils
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Génération en ligne
Paramètres recommandés :
Méthode d'échantillonnage : DPM++ 2M SDE
Type de planning : SGM Uniform
CFG Scale : 6-4
建议设置:
采样方法:DPM++ 2M SDE
Schedule type:SGM Uniform
CFG Scale:6-4
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